■写在前面：半导体行业迎来黄金十年，从阿斯麦（ASML）看中国光刻领域该如何突围？光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高；光刻机的技术水平决定了芯片的制程工艺，所以光刻机占据着极为重要地位。http://www.hibor.com.cn【慧博投研资讯】全球光刻机设备市场占有率高度集中，据芯思想研究院的统计，仅ASML一家就占据了全球近七成的市场，ASML的技术水平代表了世界顶尖的技术水平。http://www.hibor.com.cn（慧博投研资讯）本文对ASML的发展历程、运作模式、产品信息以及竞争格局进行深度分析，探究ASML如何在不具备先发优势的情况下逐步占据市场统治地位，找寻国内光刻机领域产业的投资机会。
　　■统观35年历史，如何从小木棚走向全球光刻机领域霸主？ASML处于半导体产业链中的曝光环节，是一家专注于提供整体光刻解决方案的供应商。公司成立于1984年，以创新为生命线，不断研发新产品，先后成功研制出双工作台浸没式TWINSCANXT、NXT系列、EUV光刻机TWINSCANNXE系列，目前已成为全球最大的半导体光刻机设备及服务提供商，拥有23247名员工，办公室遍布全球16个国家60个城市。ASML的研发投入数额巨大，2018年ASML的研发费高达17.46亿美元，ASML在全球主要设备和芯片制造国拥有约12000项专利和专利申请，新专利申请大约有300项。2018年ASML的光刻机出货224台，实现净销售额129.26亿美元，同比增长22.1%，实现净利润31.94亿美元，同比增长36.21%，毛利率达46%，净利率达24.7%。
　　■探清运作模式，技术壁垒如何造就市场护城河？ASML坚持“开放式创新”理念，打通上下游供应链，建立发放研究网络，大大加快了创新速度，快速形成技术壁垒。1）在客户方面，ASML引入三大客户--英特尔、三星、台积电入股，打造利益共同体，共享研发风险与回报。2）在供应商方面，ASML通过战略并购与入股，快速打通上游供应链，快速攫取了光源、镜头等光刻机零件领先的技术，占据技术高地。3）在外部技术合作伙伴、研究机构、学院方面，ASML主导打造了囊括外部技术合作伙伴、研究机构、高等院校的巨大开放式研究网络，共同研发与改进。通过打通供应链，建立开放式研究网络，ASML推出EUV系列光刻机，成为EUV领域的独家垄断者。
　　■细看产品信息，论ASML如何成就近70%的市占率ASML致力于为客户提供整体光刻解决方案，主要有光刻机系统、应用组合两大产品，以光刻机系统为核心。ASML提供的光刻机有三大类，分别是翻新的PAS 5500、DUV、EUV光刻机。三大类代表的是光刻机技术的不断提高，从PAS 5500到DUV再到EUV，最高可实现的制成节点从90nm到10nm到5nm。三类产品价格上也是不断提高，PAS5500是最具价格优势的系列，而EUV光刻机的价格昂贵，单价到达1.2亿美元。除了光刻机系统，ASML还提供计量和检测系统、计算光刻和软件解决方案等应用组合。ASML通过丰富的产品类别和一流的技术水平占据了全球近七成的市场。
　　■深剖财务数据，看公司业绩如何发展变化？1）销售净收入总体呈增长趋势，第一阶段：1993-2003年，缓慢增长期；第二阶段：2003-2007年，两倍增长期，五年内实现了将近两倍的增长；第三阶段：2007-2009年，经历两年下滑后的2009年净销售收入几乎回到了2003年的20亿水平；第四阶段：跨越性两连增，2009-2011，ASML的净销售收入跨入60-80亿美元阶段；第五阶段：2011-2016，缓慢增长期，在这五年内净销售收入基本维持在80亿美元左右；第六阶段：2016-2018，百亿新阶段，2017年净销售收入首次突破百亿美元。到2018年ASML实现年净销售收入129.26亿美元，1993-2018年复合增速达19%。2018年实现净利润31.94亿美元，1993-2018年复合增速达24%。2）毛利率、净利率小幅上涨：从1993年到2018年毛利率、净利率分别由25.8%上涨到46%、8.5%上涨到24.7%。
　　■聚焦全球市场，未来市场需求能否继续保持强劲？1）竞争格局：全球光刻机领域，主要有ASML、尼康、佳能这三个主要生产商，ASML无论是产品、技术，还是市场占有率都是稳居第一。在超高端的EUV光刻领域，ASML是全球唯一能够生产EUV光刻机设备的厂家，掌握了独家垄断权，市场占有率达100%。2）市场规模：未来10年，在大数据、物联网、自动驾驶、人工智能、5G等主要创新驱动下，芯片制造商的业绩将加速增长，低、中、高、超高端光刻机市场规模有望持续增长。ASML预计2020年公司光刻机中端市场净销售收入将达144亿美元，2025年光刻机低端市场净销售收入将到达166亿美元，高端市场净销售收入有望达266亿美元。3）行业趋势：光刻机分辨率不断提升、波长不断缩短、制程节点不断提高。
　　■反观国内现状：在光刻机领域中国如何实现技术突围？在IC前道光刻设备方面，上海微电子装备股份有限公司代表了国内顶尖水平，其产品最高可实现90nm制程，ASML可达到5nm，上海微电子与国际先进水平仍有较大差距。光刻工序涂胶显影设备上，国内技术领先的是沈阳芯源微电子设备股份有限公司（拟登陆科创板），在LED芯片制造及集成电路制造后道先进封装等环节已成功实现进口替代。从ASML的成长历史来看，中国的光刻机企业可以借鉴：1）光刻机零件采取外包模式，专注于光刻机核心技术研发；2）打造上下游利益链，形成稳定利益共同体；3）建立开放研究网络，合理共享研发成果。
　　■风险提示：半导体行业进入下行周期风险；公司业绩下滑